製品紹介
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半導体・LCD等に用いられるフォトレジストの、感度・残膜率・解像性・耐熱性等に寄与するノボラック樹脂製品をご提供します。 生産工場
研究所
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特長
当社フォトレジスト用樹脂の優れた5つの特長
- 高度な分子量制御によりロット間安定性に優れています。
- アルカリ現像液に対する溶解性制御性に優れています。
- 独自の手法により分子量分布制御性に優れています。
- 独自の手法により結合様式制御性に優れています。
- 多種にわたるモノマー配合技術を有しています。
用途
エレクトロニクス・電機
半導体
半導体・LCD・その他用途向けフォトレジスト
使用例
フォトレジストのパターニング例
パターニング
断面SEM
トピックス すべてを見る
- 2025/07/07 製品情報 高摺動・高耐熱フェノール樹脂成形材料のラインナップ拡充について
- 2025/06/17 メルマガ CARTALK+『人とくるまのテクノロジー展 2025 YOKOHAMA 出展レポート』
- 2025/06/13 製品情報 『Response』に当社製品についての記事が掲載されました。
- 2025/05/28 メルマガ CARTALK+『人とくるまのテクノロジー展 2025 YOKOHAMAに出展しました。』
- 2025/03/28 メルマガ CARTALK+『急速に進む“高電圧化”トレンドを先取り 高電圧・高耐熱に対応するジアリルフタレート樹脂成形材料を開発』
展示会情報 すべてを見る
- 2025/10/14 CEATEC 2025
- 2025/05/21 人とくるまのテクノロジー展 2025 YOKOHAMA
- 2025/01/22 第17回 国際カーエレクトロニクス技術展
- 2024/12/11 SEMICON JAPAN 2024 / APCS (Advanced Packing and Chiplet Sumit)
- 2024/10/23 第7回 名古屋カーエレクトロニクス技術展
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