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フェノールレジン
フォトレジスト用樹脂

製品紹介

半導体・LCD等に用いられるフォトレジストの、感度・残膜率・解像性・耐熱性等に寄与する製品をご提供します。

生産工場

  • 静岡工場

研究所

  • HPP技術開発研究所

特長

当社フォトレジスト用樹脂の優れた5つの特長

  • 高度な分子量制御によりロット間安定性に優れています。
  • アルカリ現像液に対する溶解性制御性に優れています。
  • 独自の手法により分子量分布制御性に優れています。
  • 独自の手法により結合様式制御性に優れています。
  • 多種にわたるモノマー配合技術を有しています。

用途

エレクトロニクス・電機

半導体

半導体・LCD・その他用途向けフォトレジスト

使用例

フォトレジストのパターニング例

パターニング

断面SEM

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03-5462-4118
FAX:
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